
博纳科技无机陶瓷膜片采用高纯度 α-Al₂O₃ 作为多孔支撑层,表层覆以 ZrO₂ / TiO₂ / Al₂O₃ 活性分离层,经 1700℃ 高温烧结形成。产品化学稳定性极强,可在 pH 0-14 全范围、最高 350℃ 的苛刻条件下长期运行,耐强氧化剂、耐有机溶剂、耐磨、可高频反洗,是有机膜无法胜任的高温强腐蚀工况下的理想替代方案。



工作温度范围 -10℃ ~ 350℃,可承受蒸汽灭菌(SIP)与高温清洗(CIP)工艺,有助于免去热料液冷却环节,利于降低系统综合运行能耗与成本。
宽广的 pH 0-14 耐受范围,可稳定应用于强酸(H₂SO₄, HCl, HNO₃)、强碱(NaOH, KOH)、强氧化剂(NaClO, O₃, H₂O₂)及有机溶剂(DMF, DMSO, 丙酮)等苛刻化学环境。
采用 α-Al₂O₃ 陶瓷基体,爆破压力 ≥ 6 MPa。相较于有机膜,具有优异的抗压密性与结构稳定性,可承受高频、高压的气水反冲洗,配合强化学清洗,可实现更高的通量恢复率与运行稳定性。
提供从 2nm(近似纳滤)到 2μm(微滤) 的精确孔径控制。其中 2-20nm 的纳米级精度区间,能有效填补有机膜的性能空白,适用于高难度小分子分离与脱盐工艺。